NIL Technology ApS（NILT）是一家丹麦先进光学与纳米压印技术品牌，成立于2006年，长期专注于超构光学、衍射光学、AR/MR波导、微纳结构母版和纳米压印设备的设计、开发与规模化制造。品牌以meta-optics、metalenses和高精度微纳结构复制技术为核心，产品覆盖超构光学器件、光学元件与组件、AR/MR波导、微纳结构母版和紧凑型纳米压印工具等方向，可用于3D sensing、成像模组、AR/MR显示、传感器、机器视觉、汽车光学、消费电子、通信和高端光学器件开发等应用场景。

◆ NIL Technology ApS产品线

● 超构光学产品：Meta Optics系列以metalenses和基于超构光学的器件为核心，覆盖NILT metaEye™ Ultra-Compact Camera、Metalenses、ToF Imaging camera、Dot Projection、Flood illumination和Pattern Projection等方向。相关产品可通过纳米尺度结构实现光场调控，适用于智能手机、AR/MR、可穿戴设备、汽车、机器人、IoT平台、深度感知、人脸识别、手势识别、眼动追踪和医疗仪器等应用。

● 光学元件与组件：Optical Elements & Components系列以diffusers、fanouts、collimators和focusing lenses等为代表，面向光束扩散、分束、准直、聚焦和结构光输出等光学需求。适用于3D成像、深度感知、光学传感、显示系统、机器视觉、通信模块和需要精密光场调控的光学系统开发。

● AR/MR波导相关产品：Waveguides for AR/MR主要面向增强现实和混合现实显示光学，表面浮雕波导通常基于高折射率玻璃，并通过入耦合、二维扩展和出耦合光栅实现图像信号传输。该系列适用于AR/MR眼镜、近眼显示、光波导显示模组、衍射光栅结构和消费级可穿戴显示器件开发。

● 微纳结构母版：Masters系列面向微纳结构复制和纳米压印生产需求，可根据具体光学结构和应用要求制备母版及相关复制用结构。该类产品适用于衍射光学元件、波导光栅、超构光学结构、微纳图案转印和高一致性光学元件批量复制流程。

● 紧凑型纳米压印工具：Compact Nanoimprint Tool（CNI）是一类桌面型纳米压印设备，可用于微米和纳米尺度结构的复制，并支持纳米压印和热压印工艺。