micro resist technology GmbH（MRT）是一家德国微纳结构化材料品牌，成立于1993年，总部位于柏林，长期专注于光刻胶、聚合物、光聚合物及配套工艺化学品的开发、生产和应用支持。品牌产品面向UV光刻、DUV光刻、电子束光刻、激光直写、双光子聚合、纳米压印、喷墨打印和干膜层压等微纳加工流程，可用于微系统技术、微电子、微光学、纳米光子学、传感器、生命科学、微流控、AR/VR光学器件及半导体相关研发制造等领域。

◆ micro resist technology产品线

● 负性光刻胶：以SU-8、SU-8 2000、SU-8 3000、SU-8 TF 6000、ma-N 1400、ma-N 2400、ma-N 400、mr-DWL和mr-EBL 6000等系列为代表，覆盖厚膜、高深宽比、激光直写、电子束光刻和干湿法刻蚀掩膜等应用需求。SU-8系列适合制备2–200 μm厚度范围内的高深宽比微结构，可用于MEMS、PDMS模具、微流控芯片和喷墨喷嘴等方向；mr-DWL系列则面向405 nm激光直写和双光子聚合，可用于快速无掩膜原型制备、刻蚀掩膜、电镀模具和微系统光学结构加工。

● 正性光刻胶：以ma-P 1200、ma-P 1200G、ma-P 1200LIL、mr-P系列和mr-PosEBR等为主要方向，适用于UV光刻、灰度光刻、激光干涉光刻和电子束光刻等工艺。ma-P 1200G系列可用于灰度光刻和标准二值光刻，适合微透镜阵列、MEMS/MOEMS、显示器件、刻蚀转移、电镀模具和UV模塑等应用；ma-P 1200LIL系列适用于激光干涉光刻中的高分辨率纳米结构制备。

● 混合聚合物与微光学材料：以OrmoComp®、OrmoClear®、OrmoStamp®、OrmoCore、OrmoClad、EpoCore和EpoClad等系列为代表，兼具光固化加工性能、光学透明性和热稳定性。该类材料适用于微透镜、衍射光学元件、光栅、单模/多模波导、光学封装、聚合物光学器件和微光学结构复制等方向，其中EpoCore/EpoClad系列可用于聚合物波导芯层与包层结构制备。

● 纳米压印光刻胶：mr-NIL系列覆盖热纳米压印、UV纳米压印以及热/UV组合纳米压印等工艺，适合纳米级图案复制、刻蚀转移和永久性微纳结构制备。相关材料具有良好的成膜性、压印性能、图形保真度和等离子刻蚀稳定性，可用于光子学、下一代电子器件、生物传感、晶圆级光学、线栅偏振器和多种微纳结构加工。

● 喷墨打印功能材料：以InkEpo、InkOrmo及其他可喷墨沉积的光聚合物材料为代表，适配商业喷墨打印设备，并可根据打印需求选择不同黏度等级。InkEpo系列具有UV固化、低黏度、较好的液滴生成稳定性和固化后热/机械/化学稳定性，适用于单个微透镜、微透镜阵列、波导、微流控器件、间隔层、保护层、粘接材料和大面积基底加工。

● 干膜光刻胶与配套工艺化学品：干膜系列以层压型聚合物薄膜为主，具有膜厚精度高、与多种基底附着性好、操作简便和可光结构化等特点，适用于微流控、封装、光学结构和多层微结构制备。配套工艺化学品包括显影液、去胶液、稀释剂和清洗相关试剂等，可与ma-P、ma-N、mr-DWL、mr-EBL、SU-8、EpoCore/EpoClad、PMMA、LOR/PMGI等系列联用，服务于光刻、显影、剥离、刻蚀掩膜和后处理流程。